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用于降低激光退火中的光束不稳定性的系统和方法

摘要

本发明涉及用于降低激光退火中的光束不稳定性的系统和方法。该方法包括:利用光束重定向元件引导调节激光束通过光圈中的开口;通过将所述光圈成像在所述半导体晶片的所述表面处,来在所述半导体晶片的所述表面上形成线图像,由此局部加热所述半导体晶片的所述表面,以形成退火温度分布;探测来自所述半导体晶片的局部加热表面的热发射;根据探测的热发射来确定所述退火温度分布;从所述退火温度分布来确定包括斜率的时变量的线图像强度分布曲线;以及调节所述光束重定向元件以重定向所述调节激光束,以减小或消除所述线图像强度分布曲线中的斜率的时变量。

著录项

  • 公开/公告号CN105206519B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 超科技公司;

    申请/专利号CN201510349565.5

  • 申请日2015-06-23

  • 分类号H01L21/268(20060101);H01L21/67(20060101);

  • 代理机构11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人申发振

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2022-08-23 10:45:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-01

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L21/268 登记生效日:20200410 变更前: 变更后: 申请日:20150623

    专利申请权、专利权的转移

  • 2019-12-13

    授权

    授权

  • 2019-12-13

    授权

    授权

  • 2017-07-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/268 申请日:20150623

    实质审查的生效

  • 2017-07-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/268 申请日:20150623

    实质审查的生效

  • 2017-07-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/268 申请日:20150623

    实质审查的生效

  • 2015-12-30

    公开

    公开

  • 2015-12-30

    公开

    公开

  • 2015-12-30

    公开

    公开

  • 2015-12-30

    公开

    公开

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