一种层间绝缘层的制备方法、层间绝缘层及液晶显示面板

摘要

本发明提供一种层间绝缘层的制备方法、层间绝缘层及液晶显示面板，该方法包括下述步骤：S1、在基板上依次沉积低折射率的第一SiNx层、高折射率的第二SiNx层，其中，低折射率的范围为1.7～1.87，高折射率的范围为1.91～1.93，x≥1；S2、在第二SiNx层上沉积SiOy层，其中，SiOy层的折射率范围为1.4～1.5，y≥1。本发明提供的层间绝缘层具有良好的弹性和稳定性，并且承受的应力较小，不会破坏膜层，不会造成膜层破裂剥落，降低了对低温多晶硅的长距离精度的影响。