一种双重版图的设计方法及系统

摘要

本发明提供一种双重版图的设计方法，包括：提供分解版图；将分解版图进行光源掩膜协同优化仿真，获得限制重叠工艺窗口的热点区域；调整热点区域中图形的尺寸和/或间距，并进行光源掩膜协同优化仿真，以消除热点区域；将热点区域消除时设定的图形的尺寸和/间距添加至规则库中，获得更新的规则库；按照更新的规则库中的拆分规则，对至少包括热点区域的版图部分的图形进行拆分，获得热点区域分解版图；将热点区域分解版图更新至原始分解版图，获得更新的分解版图。该方法在设计过程中优化拆分，避免前期拆分不当产生设计缺陷而导致的反复拆分，简化设计并提高设计效率。