法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-31
授权
授权
2016-07-06
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20160324
实质审查的生效
2016-07-06
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20160324
实质审查的生效
2016-06-08
公开
公开
2016-06-08
公开
公开
机译: 建立用于模拟光刻工艺的掩模版图布局数据和定义优化的掩模版图布局数据的过程
机译: 建立用于模拟光刻工艺的掩模版图布置数据并定义优化的掩模版图布置数据的过程;相应的设备和程序
机译: 建立用于模拟光刻工艺的掩模版图布置数据并定义优化的掩模版图布置数据的过程;相应的设备和程序