首页> 中国专利> 针对版图设计数据改版的光刻工艺的友善性检查方法

针对版图设计数据改版的光刻工艺的友善性检查方法

摘要

本发明提供了一种针对版图设计数据改版的光刻工艺的友善性检查方法,包括:准备版图设计数据;执行版图设计数据的光刻友善性检查,此时判断版图设计数据是否定案;如果定案则处理结束,如果未定案则进行部分版图设计数据改版;在部分版图设计数据改版之后进行版图改版前后数据比对,以得到改版前后差异区域,随后将改版前后差异区域进行放大处理,在将改版前后差异区域进行放大处理之后针对改版前后差异区域再次执行版图设计数据的光刻友善性检查。

著录项

  • 公开/公告号CN105653828B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201610173339.0

  • 申请日2016-03-24

  • 分类号

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人智云

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号

  • 入库时间 2022-08-23 10:33:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-31

    授权

    授权

  • 2016-07-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20160324

    实质审查的生效

  • 2016-07-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20160324

    实质审查的生效

  • 2016-06-08

    公开

    公开

  • 2016-06-08

    公开

    公开

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