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具有为块状半金属的半导体材料的器件及其形成方法

摘要

本发明描述了器件和形成这样的器件的方法,器件具有当为块状时是半金属但是在器件中是半导体的材料。示例性结构包括衬底、第一源极/漏极接触区、沟道结构、栅极电介质、栅电极和第二源极/漏极接触区。衬底具有上表面。沟道结构连接至第一源极/漏极接触区并且位于第一源极/漏极接触区上方,并且沟道结构位于衬底的上表面上方。沟道结构具有在第一源极/漏极接触区之上延伸的侧壁。沟道结构包括含铋半导体材料。栅极电介质为沿着沟道结构的侧壁。栅电极为沿着栅极电介质。第二源极/漏极接触区连接至沟道结构并且位于沟道结构上方。本发明涉及具有为块状半金属的半导体材料的器件及其形成方法。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-26

    授权

    授权

  • 2016-10-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/092 申请日:20151029

    实质审查的生效

  • 2016-10-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/092 申请日:20151029

    实质审查的生效

  • 2016-09-28

    公开

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  • 2016-09-28

    公开

    公开

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