一种高饱和磁化强度锰铋永磁合金薄膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种高饱和磁化强度锰铋永磁合金薄膜的制备方法，包括如下步骤：1）配料：按照名义成分Mn_yBi_100‑y，摩尔分数y=45,50,55，采用纯度为99.99%以上的Mn、Bi合金进行称重配料；2）熔炼：采用电弧熔炼法将已配好的原料放入在氩气保护下的电弧熔炉中，熔炼得到MnyBi_100‑y合金铸锭；3）铸锭热处理；将该铸锭放入真空退火炉中进行真空退火热处理；4）镀膜：采用电子束蒸发沉积方法，以热处理后的铸锭为靶材，以硅片为基片，以钽为缓冲层和防氧化层，制备Mn_yBi_100‑y合金薄膜。