首页> 中国专利> 用于相移光刻掩模的光学接近校正

用于相移光刻掩模的光学接近校正

摘要

提供了一种用于产生用于限定目标图案的光刻掩模的计算机可读定义的方法。该相移掩模图案包括相移窗口,修整掩模图案包括修整形状,他们具有由这样的线段组限定的边界。对于用于限定目标图案中的目标图形的特定的一对相移窗口,在所述对中的每个相移窗口可以被考虑为具有包括与所述目标图形相邻的至少一个线段的边界。同样,例如通过包括用于清除在特定对的相移窗口之间的不需要的相变的透射区域,而限定目标图形的互补修整形状包括可以被考虑为靠近该目标图形的至少一个线段。通过调整在靠近该目标图形的所述对中的相移窗口的边界上的至少一个线段的位置、并且通过调整在靠近该目标图形的互补修整形状的边界上的至少一个线段的位置来提供接近校正。

著录项

  • 公开/公告号CN1303474C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-03-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 数字技术公司;

    申请/专利号CN02811550.3

  • 申请日2002-06-07

  • 分类号G03F1/00(20060101);G03F1/14(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人邸万奎;黄小临

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-21

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 1/00 授权公告日:20070307 终止日期:20160607 申请日:20020607

    专利权的终止

  • 2009-10-21

    专利申请权、专利权的转移(专利权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20090911 申请日:20020607

    专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)

  • 2009-10-21

    专利申请权、专利权的转移(专利权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20090911 申请日:20020607

    专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)

  • 2009-10-21

    专利申请权、专利权的转移(专利权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20090911 申请日:20020607

    专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)

  • 2009-10-21

    专利申请权、专利权的转移(专利权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20090911 申请日:20020607

    专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)

  • 2007-03-07

    授权

    授权

  • 2007-03-07

    授权

    授权

  • 2005-07-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-07-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-05-25

    公开

    公开

  • 2005-05-25

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号