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一种具有双阶级图层的图形化衬底的制备方法

摘要

本发明提供一种具有双阶级图层的图形化衬底的制备方法,第一次蚀刻后在第一二氧化硅掩膜层的表面通过电浆喷洗对其进行微粗化处理,粗化后的第一二氧化硅掩膜层能与光刻胶掩膜层形成良好的接触,进而得到具有第二类图形的第二二氧化硅掩膜层,再次进行二次蚀刻后形成具有双阶级图层的蓝宝石衬底。双阶级图层其表面面积增大,增加反射出光面,很大程度上提高了光的反射率及改善长晶的错位密度。

著录项

  • 公开/公告号CN106025030B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-10-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 泉州市三星消防设备有限公司;

    申请/专利号CN201610641282.2

  • 发明设计人 钟志伟;

    申请日2016-08-08

  • 分类号H01L33/20(20100101);H01L21/306(20060101);

  • 代理机构11129 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人巩固

  • 地址 362300 福建省泉州市南安市成功科技工业园

  • 入库时间 2022-08-23 10:18:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-23

    授权

    授权

  • 2017-06-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/20 申请日:20160808

    实质审查的生效

  • 2017-06-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 33/20 申请日:20160808

    实质审查的生效

  • 2016-10-12

    公开

    公开

  • 2016-10-12

    公开

    公开

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