透孔箔的生产方法及其在生产微米和亚微米过滤器中的应用

摘要

本发明涉及一种生产透孔箔的方法。本发明方法包括下述步骤：准备厚度为5微米至几十微米的箔，该箔可以通过平版印刷操作来刻蚀；在该箔的一表面上制作掩蔽层，所述掩蔽层的刻蚀选择性S至少等于5；在所述掩蔽层上沉积一光敏树脂层；采用平版印刷在所述树脂层中制作透孔；从掩蔽层中的孔各向异性刻蚀穿透所述箔，以在箔中制作形状系数大于5的孔。本发明适用于生产微米与亚微米过滤器。