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具有拉曼增强性质的一维、二维或三维纳米间隙阵列及其制备方法

摘要

一种具有拉曼增强性质的一维至三维纳米间隙阵列及其制备方法,属于材料科学领域。本方法涉及到纳米切割技术、物理气相沉积技术以及一些光刻和刻蚀方面的技术。整个过程操作简便,过程低耗清洁,可控性高。通过控制沉积间隔层的厚度,可以制备一系列不同尺寸的一维纳米间隙。结合光刻技术,可以制备具有高集成性的二维纳米间隙阵列,提高器件的制备效率;在此基础上,叠加两层或者多层二维纳米间隙阵列可以得到新颖的三维立体化的纳米间隙阵列,具有更高的集成度和更强的等离子体共振性质,进而产生更为稳定清晰的拉曼信号,可以更好的运用到实际应用中。

著录项

  • 公开/公告号CN105372728B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-12-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 吉林大学;

    申请/专利号CN201510956043.1

  • 发明设计人 张刚;周紫薇;赵志远;艾斌;

    申请日2015-12-21

  • 分类号G02B5/00(20060101);

  • 代理机构22201 长春吉大专利代理有限责任公司;

  • 代理人王淑秋;王恩远

  • 地址 130012 吉林省长春市前进大街2699号

  • 入库时间 2022-08-23 10:05:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-07

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B5/00 授权公告日:20171215 终止日期:20171221 申请日:20151221

    专利权的终止

  • 2017-12-15

    授权

    授权

  • 2016-03-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/00 申请日:20151221

    实质审查的生效

  • 2016-03-02

    公开

    公开

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