首页> 中国专利> 绝缘体上硅反向导通横向绝缘栅双极晶体管及其制备方法

绝缘体上硅反向导通横向绝缘栅双极晶体管及其制备方法

摘要

一种SOI RC LIGBT,包括:衬底;隔离氧化层;形成于N型漂移区一端的P+区域;形成于P阱区域的P+发射极区域;形成于P+发射极区域和P阱区域交界处N+发射极区域;形成于N型漂移区远离P+发射极区域一端的集电极区域;设于N型漂移区上的场氧化层;设于场氧化层上的栅氧化层;设于栅氧化层上的多晶硅栅电极;设于栅氧化层上的介质层;设于P+发射极区域上的发射极金属层;设于集电极区域上的集电极金属层。上述SOI RC LIGBT由于在集电极区域设置了N+集电极区域,实现了反向导通能力。N+集电极区域、N型漂移区、和P阱区域构成内置二极管,应用时不需要另外设计反并联二极管单元,节省了芯片面积,同时消除了IGBT与二极管反并联时的寄生参数。

著录项

  • 公开/公告号CN104425579B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-09-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 无锡华润上华半导体有限公司;

    申请/专利号CN201310383065.4

  • 发明设计人 张硕;芮强;王根毅;邓小社;

    申请日2013-08-28

  • 分类号

  • 代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司;

  • 代理人邓云鹏

  • 地址 214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号

  • 入库时间 2022-08-23 10:00:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-03

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 29/739 登记生效日:20171017 变更前: 变更后: 申请日:20130828

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-09-29

    授权

    授权

  • 2017-09-29

    授权

    授权

  • 2015-04-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/739 申请日:20130828

    实质审查的生效

  • 2015-04-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/739 申请日:20130828

    实质审查的生效

  • 2015-04-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/739 申请日:20130828

    实质审查的生效

  • 2015-03-18

    公开

    公开

  • 2015-03-18

    公开

    公开

  • 2015-03-18

    公开

    公开

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