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用于在激光烧蚀期间保护光线光学组件的系统

摘要

在带电粒子束附近执行激光烧蚀、同时防止用于执行烧蚀的设备的光线光学组件被涂覆有产生于烧蚀过程的残渣的方法和设备。按照本发明的优选实施例,保护透明掩体用于保护激光器光学组件。优选掩体可在无需中断样本室中的真空的情况下更换或再定位,并且不会对不合需要的充电效应特别敏感。

著录项

  • 公开/公告号CN103358035B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-07-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FEI公司;

    申请/专利号CN201310192260.9

  • 发明设计人 M·斯特劳;

    申请日2013-03-28

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人俞华梁

  • 地址 美国俄勒冈州

  • 入库时间 2022-08-23 09:58:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-18

    授权

    授权

  • 2015-04-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):B23K 28/02 申请日:20130328

    实质审查的生效

  • 2015-04-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):B23K 28/02 申请日:20130328

    实质审查的生效

  • 2013-10-23

    公开

    公开

  • 2013-10-23

    公开

    公开

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