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提高化学增强光致抗蚀剂分辨率的方法

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一种提高化学增强光致抗蚀剂分辨率的方法，此方法包括：在基片上形成化学增强光致抗蚀剂的凸图像，其中此凸图像具有第一尺寸的特征；以及用酸性水溶液接触此凸图像足够时间，以有效地将凸图像的第一尺寸降到第二尺寸。

著录项

公开/公告号CN1241070C

专利类型发明授权
公开/公告日2006-02-08

原文格式PDF
申请/专利权人国际商业机器公司;
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申请/专利号CN03127442.0
发明设计人李伟健;吴宗禧;
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申请日2003-08-07
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人赵仁临
地址美国纽约州
入库时间 2022-08-23 08:58:25

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2010-11-03

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/26 授权公告日:20060208 申请日:20030807

专利权的终止
2006-02-08

授权

授权
2004-08-25

实质审查的生效

实质审查的生效
2004-06-16

公开

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