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含倍半萜内酯成膜树脂及其负性248nm光刻胶

摘要

本发明公开一种含倍半萜内酯的成膜树脂及其负性248nm光刻胶,其共聚物成膜树脂由共聚单体在自由基引发剂存在的条件下,在溶剂中进行共聚反应制备而成,成膜树脂的分子量为4,000~1,00,000,共聚单体主要为下列质量百分含量的化合物:取代苯乙烯5%~40%,含天然产物倍半萜内酯的组成单元10%~60%,其它性能调节组分单体1%~20%。由上述共聚物成膜树脂配制而成的248nm深紫外负性光刻胶,主要由以下质量份的化合物组成:成膜树脂10~35份,交联剂0.2~15份,光致酸0.5~6份,溶剂70~90份,有机碱0.01~0.5份。本发明所述共聚物成膜树脂配制而成的248nm深紫外负性光刻胶具有良好的分辨率,增加了光刻胶在曝光波长处的透明性,可提高其光敏性能,还能增加光刻胶与硅片之间的粘结性能和抗刻蚀性能。

著录项

  • 公开/公告号CN104387524B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-06-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昆山西迪光电材料有限公司;

    申请/专利号CN201410684891.7

  • 发明设计人 冉瑞成;沈吉;庄学军;潘新刚;

    申请日2014-11-25

  • 分类号

  • 代理机构苏州创元专利商标事务所有限公司;

  • 代理人马明渡

  • 地址 215311 江苏省苏州市昆山市巴城镇苇城南路1666号清华科技园创新大厦6层

  • 入库时间 2022-08-23 09:57:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-06-16

    授权

    授权

  • 2015-04-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 220/32 申请日:20141125

    实质审查的生效

  • 2015-03-04

    公开

    公开

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