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公开/公告号CN103296437B
专利类型发明专利
公开/公告日2017-04-26
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳光启创新技术有限公司;
申请/专利号CN201210050412.7
发明设计人 刘若鹏;赵治亚;方小伟;何雪涵;金晶;
申请日2012-02-29
分类号H01Q15/00(20060101);H01Q1/42(20060101);
代理机构11449 北京成创同维知识产权代理有限公司;
代理人蔡纯;高青
地址 518034 广东省深圳市福田区香梅路1061号中投国际商务中心A栋18B
入库时间 2022-08-23 09:55:40
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-04-26
授权
2015-02-04
实质审查的生效 IPC(主分类):H01Q 15/00 申请日:20120229
实质审查的生效
2013-09-11
公开
机译: 超材料,包括超材料在内的天线罩和方法
机译: 波浪衰减的三维超材料,三维超材料的单位单元,用于三维印刷三维印刷的超重要性,计算机程序的制造方法
机译: 具有包括超材料的层的涂层制品,具有包括超材料的层的涂层和/或制造它们的方法
机译:制造金属机械超材料的微细加工方法
机译:利用DNA和磁场自组织制造光学超材料的方法
机译:通过自组装方法制造的可见超材料
机译:自组织方法的超材料谐振器新制造方法
机译:光学超材料的设计与制造及其纳米制造方法。
机译:孔罩胶体纳米光刻技术与倾斜角旋转蒸发相结合:一种低成本大面积复杂等离激元纳米结构和超材料的通用制造方法
机译:孔掩模胶体纳米光刻与倾斜角度旋转蒸发结合:用于制造低成本和大面积复杂等离子体纳米结构和超材料的通用方法
机译:新型光学超材料和制造方法。