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用于终点检测的动态或适应性追踪光谱特征

摘要

一种控制研磨的方法包括以下步骤:研磨基板;以及接收选定光谱特征的识别、具有宽度的波长范围,及该选定光谱特征的特性以在研磨期间进行监视。在研磨该基板的同时测量来自该基板的光的一系列光谱。根据该系列光谱产生该选定光谱特征的该特性的一系列值。对于来自该系列光谱的至少一些光谱而言,基于该光谱特征在用于该系列光谱中的先前光谱的先前波长范围内的位置,产生修改波长范围,在该修改波长范围中搜寻该选定光谱特征,且确定该选定光谱特征的特性的值。

著录项

  • 公开/公告号CN102884613B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-08-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201180022552.7

  • 申请日2011-04-20

  • 分类号

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人胡林岭

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:46:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-31

    授权

    授权

  • 2013-06-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20110420

    实质审查的生效

  • 2013-01-16

    公开

    公开

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