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一种氧化铝陶瓷基板烧结窑

摘要

本实用新型涉及一种氧化铝陶瓷基板烧结窑,它主要解决了现有技术中烧结窑内的加热温度均匀性差的问题,包括烧结窑体和输送装置,烧结窑体具有进料口、出料口以及连通进料口和出料口的烧结室,输送装置设于烧结室内,烧结室包括加热室和冷却室,加热室和冷却室之间设有隔板,隔板上设有通口,所述加热室内设有罩体,罩体与烧结窑体之间形成一加热腔,罩体上设有连通加热腔和加热室的透气孔,罩体上且位于进料口的上侧设有一排第一通孔,位于通口的下侧且与加热腔连通设有连接管,连接管上端设有一排第二通孔,加热腔内且位于烧结窑体的内表面均布有加热管,加热室内且靠近通口一侧的上端设有出气口。

著录项

  • 公开/公告号CN215766414U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-02-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 福建华清电子材料科技有限公司;

    申请/专利号CN202121189438.0

  • 发明设计人 杨大胜;施纯锡;

    申请日2021-05-31

  • 分类号F27B9/12(20060101);F27B9/24(20060101);F27B9/36(20060101);F27B9/30(20060101);

  • 代理机构35209 泉州市诚得知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人赖开慧

  • 地址 362200 福建省泉州市晋江市经济开发区(五里园)灵石路2号

  • 入库时间 2022-08-23 04:35:54

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