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一种去除水厂工艺流程中难去除抗生素的系统

摘要

本实用新型属于水处理领域,具体公开了一种去除水厂工艺流程中难去除抗生素的系统,包括混凝池、沉积池、砂滤池、UV装置以及活性炭工艺装置,上述装置依次串联连;即砂滤后的处理水流进所述UV装置,所述UV装置内设消毒舱、控制柜与化学清洁系统;水流通过进水法兰进入消毒舱,进水法兰与石英套管相连,石英套管上方设置一UVGI灯管,经UVGI灯管消毒后,被处理过的水通过出口法兰流出所述UV装置;所述UV装置后连接一活性炭工艺装置,活性炭工艺装置底部连接出水管。本实用新型以紫外光反应与双氧水氧化共同发挥作用,充分发挥二者的优势,对废水中抗生素进行降解,降解速率快,降解效率高,而且原料成本低,副产物无毒害。

著录项

  • 公开/公告号CN213475668U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202022208197.1

  • 发明设计人 夏萍;张双翼;叶辉;王铮;朱文滨;

    申请日2020-10-01

  • 分类号C02F9/08(20060101);C02F101/38(20060101);C02F101/36(20060101);C02F101/34(20060101);C02F101/30(20060101);

  • 代理机构31274 上海国智知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人潘建玲

  • 地址 200082 上海市杨浦区许昌路230号1幢

  • 入库时间 2022-08-22 22:19:21

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