公开/公告号CN213476088U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-06-18
原文格式PDF
申请/专利权人 湖南玉丰真空科学技术有限公司;
申请/专利号CN202022138296.7
申请日2020-09-25
分类号C23C14/35(20060101);
代理机构43263 湖南格创知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人张文
地址 411100 湖南省湘潭市湘潭九华示范区大众东路2号
入库时间 2022-08-22 22:19:16
机译: 在真空室中操作用于磁控溅射的大型阴极,其中阴极包括靶,包括通过装置产生磁场,并将靶分为两个部分靶
机译: 具有各自可调节磁场的旋转磁控溅射
机译: 具有各自可调节磁场的旋转磁控溅射