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磁场可调的磁控溅射阴极

摘要

本实用新型公开了一种磁场可调的磁控溅射阴极,包括靶材、背板、磁体装置、阴极底板以及屏蔽板,磁体装置由在长度方向上的多块独立磁场模块组成,每个独立磁场模块分别单独通过调节组件与固定在阴极底板上的固定底板连接,调节组件包括调节螺母、调节螺杆、导向柱,调节螺母转动连接在固定底板上,调节螺杆与调节螺母螺纹连接,调节螺杆穿过固定底板与独立磁场模块连接,固定底板上设有导向孔,导向柱一端与独立磁场模块固定连接,另一端与导向孔配合。本实用新型将磁体装置在高度方向上分成多段独立磁场模块,每块独立磁场模块均可通过调节螺母来实现前后移动,从而调节磁场前后的距离,实现高度方向上不同区域膜厚不一致的工艺生产要求。

著录项

  • 公开/公告号CN213476088U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湖南玉丰真空科学技术有限公司;

    申请/专利号CN202022138296.7

  • 发明设计人 李国强;舒逸;刘光斗;李赞;

    申请日2020-09-25

  • 分类号C23C14/35(20060101);

  • 代理机构43263 湖南格创知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张文

  • 地址 411100 湖南省湘潭市湘潭九华示范区大众东路2号

  • 入库时间 2022-08-22 22:19:16

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