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公开/公告号CN211554724U
专利类型实用新型
公开/公告日2020-09-22
原文格式PDF
申请/专利权人 江阴新顺微电子有限公司;
申请/专利号CN202020319275.2
发明设计人 蒋亚东;周晓;陈磊;吕伟;李天鹏;王光伟;
申请日2020-03-16
分类号G05B19/05(20060101);
代理机构32380 江阴市轻舟专利代理事务所(普通合伙);
代理人孙燕波
地址 214400 江苏省无锡市江阴市高新区长山大道78号
入库时间 2022-08-22 16:54:15
机译: 基板清洗设备,包括该基板清洗设备的基板处理系统以及使用该基板清洗设备制造半导体装置的方法
机译: 一种湿法化学合成双铜-锌-锡-四硫化物和/或-四硒化物(czts)的方法,一种生产czts的半导体层的方法以及一种胶体悬浮液
机译: 一种湿法刻蚀半导体器件中的Si3N4的方法
机译:MEI的半导体制造湿法加工系统
机译:半导体制造系统中自动湿法蚀刻站调度的新优化方法
机译:一种新型的光催化水分解系统,一种光合作用的Z方案机理模拟系统,由两种氧化物半导体光催化剂和氧化还原介体组成
机译:一种新的半导体制造系统自动化湿法蚀刻站调度的新颖优化方法
机译:生物剂传感集成电路(基础):一种新的互补金属氧化物半导体(CMOS)磁性生物传感器系统
机译:用于空气和水流的新型一步镜清洗设备用于内窥镜手术
机译:一种湿法消化 - 自动采样器 - 无烟道AA系统,用于分析多种血液样本中的痕量金属
机译:一种改进的微波消解系统用于生物流体和组织的快速湿法灰化。