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一种禅绕画型版

摘要

本实用新型公开了一种禅绕画型版,包括型版本体,所述型版本体上设有若干绘格,所述绘格为镂空于型版本体上,由若干绘格排列成绘格组,相邻的两列绘格组相距距离一致,每列中相邻的两个绘格相距距离一致,通过设置绘格解决了绘图图案单调的问题,还可一方面增强绘制线条的手感,一方面记忆基本图案,灵活运用想象力和色彩,通过变形原有的禅绕画基本图案,加入自己对周围人、事、景、物的理解和观察,随心所欲地创作有视觉震撼力的禅绕画作品。

著录项

  • 公开/公告号CN211441811U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-09-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 黄均庭;

    申请/专利号CN201921455941.9

  • 发明设计人 黄均庭;

    申请日2019-09-04

  • 分类号B44D2/00(20060101);B44D3/22(20060101);B43L13/20(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 519000 广东省珠海市香洲区香洲为农街32号2单元103房

  • 入库时间 2022-08-22 16:32:12

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