法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-06-29
授权
授权
2014-04-23
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 23/13 申请日:20130922
实质审查的生效
2014-03-26
公开
公开
机译: 有选择地生产具有高密度结构缺陷的碳纳米管和hidrofeclicos半导体的方法,碳纳米管和hidrofeclicos半导体,以及制造半导体和hidrofeclica的超表面碳,含碳材料以及任何其他材料的方法基板。
机译: SiC衬底,SiC基板制造方法,SiC半导体器件和SiC半导体器件的生产方法
机译: 氮化物半导体基板,半导体叠层基板,基板选择程序,基板数据输出程序,带有基板数据输出程序的氮化物半导体基板,角度偏心的同轴度,与传感器的中等角度坐标图,准矢状图,镍钴合金基板制造方法,半导体叠层制造方法,半导体装置制造方法以及基板数据输出方法