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光合作用影响因素的探究实验专用装置

摘要

一种光合作用影响因素的探究实验专用装置,包括上板、下板、光源以及透明注射器,所述上板通过支撑柱固定于所述下板的上方,其上具有用于自上而下插入所述透明注射器的多个插孔,所述多个插孔位于至少三个同心圈上,且每个同心圈上的插孔数量相等,所述光源与所述同心圈同心,且可拆卸固定于所述下板上,所述透明注射器与所述插孔适配。本实用新型装置经济、安全,操作便捷,并且变量控制简单。

著录项

  • 公开/公告号CN209729263U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-12-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 戴赟;

    申请/专利号CN201920163131.X

  • 发明设计人 戴赟;汪婷婷;黄建书;

    申请日2019-01-30

  • 分类号

  • 代理机构上海远同律师事务所;

  • 代理人张坚

  • 地址 200241 上海市闵行区紫龙路835号

  • 入库时间 2022-08-22 11:36:02

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