公开/公告号CN209543040U
专利类型实用新型
公开/公告日2019-10-25
原文格式PDF
申请/专利权人 德淮半导体有限公司;
申请/专利号CN201920494512.6
申请日2019-04-12
分类号
代理机构上海光华专利事务所(普通合伙);
代理人余明伟
地址 223300 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
入库时间 2022-08-22 11:03:47
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-10-25
授权
授权
机译: 防止晶圆上离子带电的光刻技术方法和晶圆冷却装置
机译: 半导体制造晶圆蚀刻工艺用静电吸盘的晶圆冷却装置
机译: 晶圆船冷却装置