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晶圆冷却装置及采用该晶圆冷却装置的光刻机

摘要

本实用新型提供一种晶圆冷却装置及采用该晶圆冷却装置的光刻机,至少包括:箱体,所述箱体的前后位置分别设有前开合门和后开合门,与所述箱体活动连接;排气孔,设置于所述箱体底面或侧面;吹扫气体系统,设置于所述箱体顶部,所述吹扫气体系统至少包括吹扫板和与所述吹扫板连接的、为所述吹扫板提供吹扫气体的进气管,所述吹扫板上开设有若干个与箱体内腔贯通的出气孔;冷盘系统,设置于所述箱体底部,所述冷盘系统至少包括盘面和位于盘面下的冷却水管。通过增加吹扫气体系统,清除晶圆表面灰尘的同时增加晶圆表面的空气流动,提高晶圆冷却速度,从而进一步提高晶圆的传送速率,增加光刻机产能。

著录项

  • 公开/公告号CN209543040U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-10-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 德淮半导体有限公司;

    申请/专利号CN201920494512.6

  • 发明设计人 刘普然;黄志凯;叶日铨;

    申请日2019-04-12

  • 分类号

  • 代理机构上海光华专利事务所(普通合伙);

  • 代理人余明伟

  • 地址 223300 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号

  • 入库时间 2022-08-22 11:03:47

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-25

    授权

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