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一种可无限拼接的优化局部屏蔽结构

摘要

本实用新型涉及核辐射防护技术领域,提供一种可无限拼接的优化局部屏蔽结构,包括边条、1型屏蔽块、2型屏蔽块和不锈钢边框,所述1型屏蔽块和2型屏蔽块均采用边长为D+2d,厚度相同的正方形母板加工而成,1型屏蔽块与2型屏蔽块之间采用错缝搭接的方式形成一个整体,置于不锈钢边框内,屏蔽块与不锈钢边框之间的间隙由边条填充。本实用新型结构简单、搭接方便,仅用两种规格的屏蔽块即可实现无限拼接,完成任意面积的局部屏蔽需求,同时,错缝连接,安全性高,本实用新型可适用于不同场所、不同位置,屏蔽效果好。

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  • 2018-11-23

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