公开/公告号CN207601507U
专利类型实用新型
公开/公告日2018-07-10
原文格式PDF
申请/专利权人 浙江启尔机电技术有限公司;
申请/专利号CN201721742445.2
申请日2017-12-14
分类号
代理机构杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙);
代理人朱月芬
地址 310000 浙江省杭州市临安市青山湖街道大园路958号科创大楼1幢301-305-01室
入库时间 2022-08-22 05:38:27
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-07-10
授权
授权
机译: 用于在浸没式光刻机中进行晶片交换期间将浸没流体保持在投影透镜下方的间隙中的装置和方法
机译: 用于在浸没式光刻机中进行晶片交换期间将浸没流体保持在投影透镜下方的间隙中的装置和方法
机译: 用于在浸没式光刻机中进行晶片交换期间将浸没流体保持在投影透镜下方的间隙中的装置和方法