法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2001-05-16
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-08-18
授权
授权
1992-01-29
公开
公开
1991-12-18
实质审查请求已生效的专利申请
实质审查请求已生效的专利申请
机译: 清洁二氧化硅粉末的方法,一种用于清洁和纯化二氧化硅粉末的装置
机译: 一种新的沉淀二氧化硅的制备方法,一种新的沉淀二氧化硅及其应用,特别是用于聚合物的增强
机译: 选择性粉末的烧结粉末,不混合再生粉末与减少或去除粉末的新粉末的混合粉末,其制备方法,以及通过对粉末进行选择性激光烧结制备的模制品