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公开/公告号CN205821442U
专利类型实用新型
公开/公告日2016-12-21
原文格式PDF
申请/专利权人 沈阳大学;
申请/专利号CN201620557705.8
发明设计人 张钧;刘岩;王宇;
申请日2016-06-12
分类号
代理机构沈阳技联专利代理有限公司;
代理人赵越
地址 110044 辽宁省沈阳市大东区望花南街21号
入库时间 2022-08-22 01:59:15
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-07-06
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C14/32 授权公告日:20161221 终止日期:20170612 申请日:20160612
专利权的终止
2016-12-21
授权
机译: 等离子体真空弧源阴极点运动轨迹的控制方法及等离子体真空弧源装置
机译: 多层弧源离子镀设备
机译: 包括用于产生磁场的装置的真空弧源
机译:一种用于Brown-Roberts-Wells弧系统的新的“伽马扩展”设备,允许完全横向的立体定向方法。
机译:一种用于在患者装置中测量源到皮肤表面距离的超声设备。
机译:核物理设施中的标准中子源系统,用于设备和装置的控制,鉴定和分级
机译:一种新型的多图像X射线干涉仪,用于弧秒和亚弧秒源
机译:用于在弧矢平面内与平滑虚拟源运动的向下轨迹向上区分的最小听觉移动角度。
机译:用于单弧和部分弧VMAT规划的物理和规划SmartArc参数的敏感性分析
机译:商用高压开关装置中轴向磁场控制漫反射真空弧
机译:用于薄膜涂层的磁光导和全电离金属/碳弧等离子体源,用于控制,磨损和微动