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一种遮挡杂散X光和直通X光的装置

摘要

本实用新型公开了一种用于遮挡杂散X光和直通X光的装置,其包括:一第一钽片光阑和一沿着X光射线的传输方向设于所述第一钽片光阑下游的一第二钽片光阑,所述第一钽片光阑上设有一第一光阑孔,所述第二钽片光阑上设有一第二光阑孔,所述第一光阑孔与第二光阑孔对应设置,且第一光阑孔的直径小于第二光阑孔的直径;一铅块,其沿X光射线的传输方向设置于所述第二钽片光阑的下游。在本实用新型所述的装置中,钽片光阑用于遮挡杂散X光,并让主光束从光阑孔中穿过,照到样品上,从而消除了杂散X光对微区分析精度的影响,提高了实验的精确性与信噪比。铅块用于遮挡直通X光,从而保护探测器,延长了探测器的使用寿命。

著录项

  • 公开/公告号CN202471626U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2012-10-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院上海应用物理研究所;

    申请/专利号CN201220058907.X

  • 申请日2012-02-22

  • 分类号

  • 代理机构上海智信专利代理有限公司;

  • 代理人邓琪

  • 地址 201800 上海市嘉定区嘉罗公路2019号

  • 入库时间 2022-08-21 23:35:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-04-08

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01N23/207 授权公告日:20121003 终止日期:20140222 申请日:20120222

    专利权的终止

  • 2012-10-03

    授权

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