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一种真空蒸发镀膜的方法和一种覆盖蒸发镀膜的稀土磁铁

摘要

本发明公开了一种真空蒸发镀膜的方法和一种覆盖蒸发镀膜的稀土磁铁,该方法包括如下的步骤:1)稀土磁铁工件进行前处理之后,装在工件架上;2)将所述工件架送入反应室,预氧化;3)将所述工件架送入镀膜室,抽真空,将金属蒸发材料M加热到蒸发温度,对所述稀土磁铁工件进行蒸镀;4)降温,破真空,取出工件获得。该方法是通过对稀土磁铁预先进行微量氧化、而后通入M蒸气发生置换反应的方式防止稀土磁铁的过度氧化,并获得致密的MO分布薄层和与该MO分布薄层牢固连接的M层。

著录项

  • 公开/公告号CN104032263B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-04-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 厦门钨业股份有限公司;

    申请/专利号CN201310756791.6

  • 发明设计人 永田浩;傅东辉;翁松青;

    申请日2013-12-27

  • 分类号C23C14/24(20060101);C23C14/18(20060101);H01F41/20(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 361015 福建省厦门市湖里区安岭路1005号

  • 入库时间 2022-08-23 09:37:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-16

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C14/24 登记生效日:20190626 变更前: 变更后:

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-04-06

    授权

    授权

  • 2014-10-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/24 申请日:20131227

    实质审查的生效

  • 2014-09-10

    公开

    公开

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