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残渣洗涤液

摘要

本发明的残渣洗涤液,由溶解了选自胺和氟化物盐的至少1种溶解剂的水溶性高分子的水系溶液构成,通过使用该洗涤液,可有效洗涤除去电子线路制造时产生的残渣,并且具有对绝缘膜、低电介质层间绝缘膜、布线等的防蚀效果高、起泡少的优点。

著录项

  • 公开/公告号CN1193410C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2005-03-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社德山;

    申请/专利号CN01803401.2

  • 申请日2001-08-31

  • 分类号H01L21/304;B08B3/08;G03F7/42;

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人魏金玺;杨丽琴

  • 地址 日本山口县德山市

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-10-22

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/304 授权公告日:20050316 终止日期:20130831 申请日:20010831

    专利权的终止

  • 2005-03-16

    授权

    授权

  • 2003-07-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-01-29

    公开

    公开

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