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含芳基联亚氨基染料的抗反射底涂料及其形成影像的方法

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摘要

本发明涉及一种新型抗反射的涂料溶液及其在照相平板印刷中的使用方法。该抗反射的涂料溶液包括聚合物、新型的芳基联亚氨基染料和溶剂，其中，该新型的芳基联亚氨基染料可吸收约180nm至约450nm的辐射。

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2008-11-26

专利权的终止(未缴年费专利权终止)

专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2008-11-26

专利权的终止(未缴年费专利权终止)

专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2005-06-15

专利申请权、专利权的转移专利权的转移变更前: 变更后: 登记生效日:20050513 申请日:19970926

专利申请权、专利权的转移专利权的转移
2005-06-15

专利申请权、专利权的转移专利权的转移变更前: 变更后: 登记生效日:20050513 申请日:19970926

专利申请权、专利权的转移专利权的转移
2005-06-15

专利申请权、专利权的转移专利权的转移变更前: 变更后: 登记生效日:20050513 申请日:19970926

专利申请权、专利权的转移专利权的转移
2004-12-22

授权

授权
2004-12-22

授权

授权
2000-01-05

实质审查请求的生效

实质审查请求的生效
2000-01-05

实质审查请求的生效

实质审查请求的生效
1999-10-20

公开

公开
1999-10-20

公开

公开

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1. 含芳基联亚氨基染料的抗反射底涂料及其形成影像的方法 [P] . 中国专利： CN1181397C . 2004.12.22
2. 含有芳基联亚氨基染料的光敏组合物 [P] . 中国专利： CN1097210C . 2002.12.25
3. BOTTOM ANTIREFLECTIVE COATINGS CONTAINING ARYLHYDRAZO DYE [P] . 韩国专利： KR20000048573A . 2000-07-25

机译：含芳基唑染料的底部抗反射涂料
4. Anti reflex ion - sub-layers with arylhydrazo dye [P] . 德国专利： DE69704368T2 . 2001-09-06

机译：抗反射离子-亚芳基偶氮染料亚层
5. Organic anti-reflective coating polymer, organic anti-reflective coating composition comprising the coating polymer and method for forming photoresist pattern using the coating composition [P] . 美国专利： US2007228365A1 . 2007-10-04

机译：有机抗反射涂料聚合物，包含该涂料聚合物的有机抗反射涂料组合物以及使用该涂料组合物形成光致抗蚀剂图案的方法