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近红外反射膜的制造方法及设有近红外反射膜的近红外反射体

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本发明提供一种制造近红外反射膜的近红外反射体的制造方法，所述近红外反射膜的制造成本性能优异、可以大面积化、涂布稳定性优异、面内的折射率不均耐性优异的近红外反射膜。该近红外反射膜的制造方法为在支承体上交替叠层了高折射率层和低折射率层的近红外反射膜的制造方法，其特征在于，将相邻的该高折射率层和低折射率层的折射率差设为0.3以上，且该高折射率层和低折射率层使用高折射率层涂布液和低折射率层涂布液而形成且将设15℃下的粘度为η

著录项

公开/公告号CN103026272B

专利类型发明专利
公开/公告日2016-02-17

原文格式PDF
申请/专利权人柯尼卡美能达控股株式会社;
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申请/专利号CN201180035305.0
发明设计人中岛彰久;荒井健夫;
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申请日2011-07-06
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人张涛
地址日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:35:03

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2016-02-17

授权

授权
2013-05-01

实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/08 申请日:20110706

实质审查的生效
2013-04-03

公开

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