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用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件

摘要

本发明提供了一种用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件,该支持件包括:一个将所述光学涂层液体合成物引入到其内的坩埚;其中所述支持件(30)进一步包括一个形成封套的框架(36,37),所述坩埚和所述光学涂层液体合成物被包裹在该封套内;所述框架(36,37)具有一个内部空间并且被配置成在所述内部空间具有的内部压力低于一个预先确定的压力阈值时气密地密封所述坩埚和所述光学涂层液体合成物,并且被配置成在所述内部空间的所述内部压力大于所述预先确定的压力阈值时使所述光学涂层液体合成物的蒸气泄出;借助于该框架,所述支持件(30)构成光学涂层液体合成物的一个匣。

著录项

  • 公开/公告号CN103930590B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-12-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 埃西勒国际通用光学公司;

    申请/专利号CN201280055044.3

  • 发明设计人 F·沙佩;D·孔特;

    申请日2012-11-09

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人白皎

  • 地址 法国沙朗通勒蓬

  • 入库时间 2022-08-23 09:32:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-13

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C14/24 登记生效日:20180223 变更前: 变更后: 申请日:20121109

    专利申请权、专利权的转移

  • 2015-12-02

    授权

    授权

  • 2014-08-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/24 申请日:20121109

    实质审查的生效

  • 2014-07-16

    公开

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