一种双频离子源

摘要

本发明公开了一种双频离子源，包括背板、放电室、栅极和中和器，所述放电室的后端由背板遮盖封闭，背板上设有气体输入孔，栅极安装在放电室前端，中和器设置在栅极等离子体发射口处；所述放电室为圆筒式并分为两段，前段为小直径段，后段为大直径段，在两段放电室外缘设置两级射频感应线圈。本发明可以在0.001Pa的低压下正常工作，使镀膜时的工艺范围更宽，离子源的稳定性高，在镀膜过程中束流的误差在正负3%以内，可以连续使用500小时不出故障且离子束污染小。