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一个离子束注入系统

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摘要

一种离子束注入系统，包括：

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1. 一个离子束注入系统 [P] . 中国专利： CN1017949B . 1992.08.19
2. 银耳菌株离子束注入诱变选育方法及所育的一个银耳菌株 [P] . 中国专利： CN103270945A . 2013-09-04
3. Ion beam implantation apparatus equipped with plasma shower and ion beam implantation method [P] . 英国专利： GB2389455A . 2003-12-10

机译：具备等离子喷淋的离子束注入装置及离子束注入方法
4. Method and apparatus for removing contaminants on inner surface of ion beam injector and method for maintaining and maintaining ion beam injector [P] . 韩国专利： KR100326366B1 . 2002-09-27

机译：去除离子束注入器内表面上的污染物的方法和装置以及维护和维护离子束注入器的方法
5. Magnet system for an ion beam implantation system using high perveance beams [P] . 美国专利： US6403967B1 . 2002-06-11

机译：用于使用高磁束的离子束注入系统的磁体系统