首页> 中国专利> 一种图案化均匀氧化铬薄膜的光化学原位制备方法

一种图案化均匀氧化铬薄膜的光化学原位制备方法

摘要

本发明公开了一种图案化均匀氧化铬薄膜的光化学原位制备方法,涉及材料表面处理技术。其主要步骤为:1)将金属材料钢表面进行打磨、抛光、清洗和干燥预处理;2)将预处理的钢表面进行激光喷丸处理;3)将激光喷丸处理的钢表面进行渗铬处理;4)将渗铬后的钢表面进行激光控制原位熔凝氧化处理,获得图案化的均匀氧化铬薄膜。本发明能够原位制得图案化的氧化铬薄膜,且氧化铬薄膜的均匀性好,界面结合强度高,性能优异,显著提高了钢的表面性能。本发明工艺过程简单,易操作,适应性强,适合于大规模批量化生产。

著录项

  • 公开/公告号CN103725858B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-08-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江苏大学;

    申请/专利号CN201310716817.4

  • 申请日2013-12-24

  • 分类号C21D7/06(20060101);C23C10/00(20060101);C23C10/60(20060101);

  • 代理机构32207 南京知识律师事务所;

  • 代理人汪旭东

  • 地址 212013 江苏省镇江市京口区学府路301号

  • 入库时间 2022-08-23 09:28:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-16

    专利权的转移 IPC(主分类):C21D7/06 登记生效日:20200528 变更前: 变更后: 申请日:20131224

    专利申请权、专利权的转移

  • 2015-08-05

    授权

    授权

  • 2015-08-05

    授权

    授权

  • 2014-05-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):C21D7/06 申请日:20131224

    实质审查的生效

  • 2014-05-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):C21D 7/06 申请日:20131224

    实质审查的生效

  • 2014-04-16

    公开

    公开

  • 2014-04-16

    公开

    公开

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