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绝缘体上半导体金属结构、形成此些结构的方法及包含此些结构的半导体装置

摘要

用于制作绝缘体上半导体金属SMOI结构的方法包含:形成包含第一半导体衬底上的绝缘体材料的受体晶片;形成包含第二半导体衬底上的导电材料及非晶硅材料的施主晶片;以及将所述施主晶片的所述非晶硅材料接合到所述受体晶片的所述绝缘体材料。本发明还揭示由此些方法形成的SMOI结构,也揭示包含此些SMOI结构的半导体装置。

著录项

  • 公开/公告号CN102782850B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-07-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 美光科技公司;

    申请/专利号CN201180011630.3

  • 申请日2011-02-10

  • 分类号

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人宋献涛

  • 地址 美国爱达荷州

  • 入库时间 2022-08-23 09:27:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-07-15

    授权

    授权

  • 2013-01-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/12 申请日:20110210

    实质审查的生效

  • 2012-11-14

    公开

    公开

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