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抗反射硬掩模组合物以及使用其制备图案化材料的方法

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摘要

该抗反射硬掩模组合物层包含聚合物，该聚合物在主链之中具有Si-O以及非硅无机组成部分。该聚合物包含至少发色团组成部分和透明组成部分以及交联组分。抗反射硬掩模组合物层用于在衬底之上形成图案化材料的方法。

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-12-05

专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/00 登记生效日:20171115 变更前: 变更后: 申请日:20101022

专利申请权、专利权的转移
2017-12-05

专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/00 登记生效日:20171115 变更前: 变更后: 申请日:20101022

专利申请权、专利权的转移
2015-05-06

授权

授权
2015-05-06

授权

授权
2012-12-26

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20101022

实质审查的生效
2012-12-26

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20101022

实质审查的生效
2012-11-07

公开

公开
2012-11-07

公开

公开

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1. 抗反射硬掩模组合物以及使用其制备图案化材料的方法 [P] . 中国专利： CN102770807B . 2015.05.06
2. 具有抗反射性能的硬掩模组合物及采用该组合物图案化材料的方法 [P] . 中国专利： CN101470352B . 2015.07.29
3. Hardmask composition having antireflective properties and method of patterning material on substrate using the same [P] . 美国专利： US8445187B2 . 2013-05-21

机译：具有抗反射特性的硬掩模组合物以及使用该硬掩模组合物在衬底上构图材料的方法
4. Polymer having antireflective properties and high carbon content, hardmask composition including the same, and process for forming a patterned material layer [P] . 美国专利： US8263321B2 . 2012-09-11

机译：具有抗反射特性和高碳含量的聚合物，包括该聚合物的硬掩模组合物以及形成图案化的材料层的方法
5. Polymer having antireflective properties and high carbon content, hardmask composition including the same, and process for forming a patterned material layer [P] . 美国专利： US7862990B2 . 2011-01-04

机译：具有抗反射特性和高碳含量的聚合物，包括该聚合物的硬掩模组合物以及形成图案化的材料层的方法