曝光装置用光照射装置、曝光装置、曝光方法、基板制造方法、掩模和被曝光基板

摘要

本发明提供可不使用高价掩模而改善析像度的曝光装置用光照射装置、接近曝光装置、接近曝光方法和基板制造方法。此外，本发明提供可高效地制造滤色器或液晶面板的掩模、被曝光基板、曝光装置和曝光方法。接近曝光装置使从多个光源部(73)射出的光的主光轴(L)分散入射到积分器(74)的周边部上。此外，掩模具有：形成有曝光到被曝光基板上的图案的曝光图案；形成在与曝光图案的外缘的第一边相邻的位置上的第一校准标识；和形成在与曝光图案的外缘的跟第一边相对置的第二边相邻的位置的第二校准标识；第一校准标识配置在从步进方向观察时与形成第二校准标识的位置不重叠的位置上。