低雷达散射截面金属支架总散射场计算方法

摘要

本发明提供一种低雷达散射截面金属支架总散射场计算方法，包括：计算得到金属端帽的第一总散射场；计算得到组合体的第二总散射场，其中，组合体包括金属支架及安装在金属支架顶端的金属端帽；根据第一总散射场和第二总散射场，计算得到金属支架的第三总散射场。本发明提供的低雷达散射截面金属支架总散射场计算方法，通过在金属支架顶端加装一个经过合理外形设计的低散射金属端帽，并从金属支架与端帽组合体的散射场中滤除金属端帽的散射场，得到金属支架的散射场，且该得到的金属支架的散射场模拟反映了真实目标测量状态下，目标安装在支架顶端时金属支架的散射场，为最终目标的RCS的精确测量提供了保证。