真空蒸发制备三氧化钨气致变色薄膜的方法

摘要

本发明涉及薄膜制备方法，特别是一种真空蒸发制备三氧化钨气致变色薄膜的方法。其特征在于包括以下步骤：清洗基片；将三氧化钨粉末或粉末压片放入电子束蒸发器真空室的坩埚中，将铂丝放在电阻式加热源上，并将清洁的基片固定在样品架上；用电子束加热使三氧化钨升华并沉积在基片上，真空镀膜机真空室压力为10^-2-10^-3Pa，真空室温度为200-300℃，电子束流为0.1-0.2mA；通过电阻加热蒸镀一层铂催化层，真空室压力为5-6.5×10^-3Pa，真空室温度为200-300℃，阻蒸电流在120-245A之间。本发明具有成本低，方法简单，薄膜质量好，均匀，变色响时间短等优点。