曝光装置和曝光方法、以及曝光单元及使用该单元的曝光方法

摘要

本发明提供一种能够提高处理能力，并能够更高效地进行多个基板的曝光的曝光装置和曝光方法、曝光单元以及使用该单元的曝光方法。该接近式曝光装量（11）具有：用于保持具有多个图案（P1、P2）的掩模（M）的掩模载置台（21）；具有用于保持作为被曝光件的多个基板（W1、W2）的工件卡盘（22）的基板载置台（23）；和借助掩模（M）的多个图案（P1、P2）向多个基板（W1、W2）照射曝光用光的照明光学系统。且在保持于工件卡盘（22）的多个基板（W1、W2）与保持于掩模载置台（21）的掩模（M）的各图案（P1、P2）对向配置的状态下，从照明光学系统照射曝光用光，将作为第一层的掩模（M）的各图案（P1、P2）单次曝光到多个基板（W1、W2）上。