Ti-Nb系氧化物烧结体溅射靶、Ti-Nb系氧化物薄膜及该薄膜的制造方法

摘要

本发明涉及一种Ti-Nb系氧化物烧结体溅射靶，其特征在于，含有钛(Ti)、铌(Nb)，其余为氧和不可避免的杂质，Ti与Nb的原子比为0.39≤(Nb/(Ti+Nb))≤0.79。本发明的主要课题在于高折射率且具有低消光系数的Ti-Nb系氧化物烧结体溅射靶、使用该靶得到Ti-Nb系氧化物薄膜、以及可以进行高速成膜。该薄膜的透射率优良，反射率下降及变动少，作为在光信息记录介质的干涉膜、保护膜或光记录介质的构成层的一部分中使用的薄膜有用，并且也可以应用于玻璃衬底，即作为热射线反射膜、防反射膜、干涉滤光片使用。