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用于形成有机聚合物薄膜的方法及设备

摘要

本发明提供一种用于在基底的表面上形成具有高成膜效率和良好再现性和稳定性的有机聚合物薄膜的技术。当在基底(12)的表面上反复进行用于形成有机聚合物薄膜的真空沉积聚合时,将在真空状态的多个蒸发源容器(32a、32b)中蒸发的多种单体引入到真空状态的沉积室(10)中并使其聚合在沉积室(10)中布置的基底(12)的表面上,每次在单体的蒸发操作开始时,液态形式的每种单体以恒定的量存在于蒸发源容器(32a、32b)中。

著录项

  • 公开/公告号CN102041478B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-07-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201010511766.8

  • 发明设计人 野口真淑;桃野健;入仓钢;

    申请日2010-10-14

  • 分类号C23C14/24(20060101);C23C14/12(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人苏娟;李瑞海

  • 地址 日本爱知县

  • 入库时间 2022-08-23 09:20:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-07-16

    授权

    授权

  • 2011-06-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/24 申请日:20101014

    实质审查的生效

  • 2011-05-04

    公开

    公开

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