使用多种多孔性材料来控制在多孔性材料的真空的装置和方法

摘要

本发明系关于一种浸液限制装置，其在浸渍式光刻系统中限制浸液于浸渍区中，该浸渍区包括投影系统与曝光对象的间的间隙。该装置还从浸渍区回收浸液。该装置包括限制构件以和第一液体可渗透构件和第二液体可渗透构件。该限制构件包括出口和孔，其中图案影像经由该孔投影于对象上。该第一液体可渗透构件覆盖该出口且具有面向对象的第一表面和与该第一表面相对的第二表面，该第二表面与第一腔室接触。该第二液体可渗透构件具有相对面向的第一和第二表面，该第二液体可渗透构件的第一表面与第一腔室接触，该第二液体可渗透构件的第二表面与不同于该第一腔室的第二腔室接触。