首页> 中国专利> 测量光刻设备中动态定位误差的性质的方法、数据处理设备以及计算机程序产品

测量光刻设备中动态定位误差的性质的方法、数据处理设备以及计算机程序产品

摘要

本发明公开了一种测量光刻设备中动态定位误差的性质的方法、数据处理设备以及计算机程序产品。光刻设备通过相对于彼此以一系列的移动来移动衬底和图案形成装置使得图案被施加到衬底上的期望位置上而操作。移动固有地包括在一个或多个轴线上的引起在被施加的图案中可以测量的相应的误差的动态定位误差。测试方法包括人为地在不同的特定频率和轴线上注入相对大的动态定位误差。测量不同频率和跨过给定轴线感兴趣的频带的注入的误差的振幅时的图案中的误差中的变化量。使用测量和注入的频率的已知条件的计算允许分析在与每次误差频率相关的频带中动态定位误差变化量。在计算中基于图案形成操作的参数和注入的和测量的轴线之间的关系应用相关函数。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-02-02

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20140312 终止日期:20161216 申请日:20101216

    专利权的终止

  • 2014-03-12

    授权

    授权

  • 2014-03-12

    授权

    授权

  • 2011-08-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20101216

    实质审查的生效

  • 2011-08-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20101216

    实质审查的生效

  • 2011-06-22

    公开

    公开

  • 2011-06-22

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号