首页> 中国专利> 在可传导离子的聚合物薄膜上形成金属或其氧化物层的方法

在可传导离子的聚合物薄膜上形成金属或其氧化物层的方法

摘要

一种制备具有薄的金属或者金属氧化物膜的可传导离子的薄膜的方法,它包括将该可传导离子的薄膜在真空下受到低能电子束的作用,以清洁该隔膜的表面,和使清洁的隔膜在真空下受到含有要被沉积的金属离子的高能离子束的作用以形成金属膜。

著录项

  • 公开/公告号CN1121730C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2003-09-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 德·诺拉电极股份公司;

    申请/专利号CN98104300.3

  • 发明设计人 R·J·阿伦;J·R·吉阿罗穆伯朵;

    申请日1998-01-21

  • 分类号H01M4/88;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人龙传红

  • 地址 意大利米兰

  • 入库时间 2022-08-23 08:56:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-03-27

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01M 4/88 授权公告日:20030917 终止日期:20120121 申请日:19980121

    专利权的终止

  • 2003-09-17

    授权

    授权

  • 2001-04-11

    著录项目变更 变更前: 变更后: 申请日:19980121

    著录项目变更

  • 2000-02-23

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1998-10-21

    公开

    公开

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