公开/公告号CN102142358B
专利类型发明专利
公开/公告日2013-08-14
原文格式PDF
申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;
申请/专利号CN201010617751.X
发明设计人 稻富裕一郎;
申请日2010-12-27
分类号H01L21/00(20060101);H01L21/02(20060101);H01L21/027(20060101);B08B3/02(20060101);
代理机构11322 北京尚诚知识产权代理有限公司;
代理人龙淳
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:15:49
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-08-14
授权
授权
2012-06-06
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/00 申请日:20101227
实质审查的生效
2011-08-03
公开
公开
机译: 基板处理装置,基板处理方法以及用于实施基板处理方法的记录介质记录程序
机译: 基板处理装置,基板处理方法以及用于实施基板处理方法的记录介质记录程序
机译: 基板输送装置,基板输送装置的控制装置,基板输送装置的位移补偿方法,实施方法的程序以及记录该程序的记录介质