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基板处理方法和装置、记录实施该方法的程序的记录介质

摘要

本发明提供一种基板处理方法和装置、记录实施该方法的程序的记录介质,当从形成微细抗蚀剂图案的基板上除去冲洗液时,能够防止图案倒塌,并且能够减少疏水剂的使用量,降低进行基板处理时的处理成本。该方法包括:向形成抗蚀剂图案的基板供给冲洗液的冲洗液供给工序(S12);和在包含使抗蚀剂图案疏水化的第1处理液的蒸气的气氛下,从供给了冲洗液的基板上除去冲洗液的冲洗液除去工序(S14~S16)。

著录项

  • 公开/公告号CN102142358B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-08-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN201010617751.X

  • 发明设计人 稻富裕一郎;

    申请日2010-12-27

  • 分类号H01L21/00(20060101);H01L21/02(20060101);H01L21/027(20060101);B08B3/02(20060101);

  • 代理机构11322 北京尚诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人龙淳

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:15:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-08-14

    授权

    授权

  • 2012-06-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/00 申请日:20101227

    实质审查的生效

  • 2011-08-03

    公开

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