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经鼻神经颅底修复装置、颅底修复膜及其装置的使用方法

摘要

本发明涉及经鼻神经颅底修复装置、颅底修复膜及其装置的使用方法,包括用于对liliequist膜漏口进行修复的第一修复膜组件,以及用于对硬脑膜漏口进行修复的第二修复膜组件。该经鼻神经颅底修复装置、颅底修复膜及其装置的使用方法,通过可融合生物膜、不可融合生物膜、支撑件、止血纱及固定气囊的配合使用,使得本申请技术方案结构紧凑、临床实用性强、效果显著,采用多层人工生物膜,辅助人工支撑和固定材料,成功实现了颅底修复,防止经鼻神经内镜术后并发症脑脊液漏的出现,减少颅内感染的风险,降低危及患者生命的可能性,提高患者生存质量并改善预后;而且,该方法修复过程中均采用人工材料。

著录项

  • 公开/公告号CN114176664A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 重庆市人民医院;

    申请/专利号CN202111446849.8

  • 申请日2021-12-01

  • 分类号A61B17/00(20060101);A61F13/36(20060101);A61F2/00(20060101);

  • 代理机构11531 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人李俊华

  • 地址 400013 重庆市渝中区中山一路312号

  • 入库时间 2023-06-19 14:32:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-15

    公开

    发明专利申请公布

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